Verfahren zur Herstellung einer Sensoranordnung
Es wird eine Sensoranordnung mit einem eine Haupterstreckungsebene aufweisenden Substrat und einer im Wesentlichen parallel zur Haupterstreckungsebene auf dem Substrat angeordneten mikromechanischen Funktionsschicht vorgeschlagen, wobei zwischen dem Substrat und der mikromechanischen Funktionsschicht eine Zwischenschicht vorgesehen ist und wobei die mikromechanische Funktionsschicht wenigstens ein gegenüber dem Substrat bewegliches Element aufweist und wobei ferner eine elastische Befestigung des beweglichen Elements am Substrat mittels der Zwischenschicht vorgesehen ist, wobei wenigstens in einem Elastizitätsbereich, welcher senkrecht zur Haupterstreckungsebene zwischen dem beweglichen Element und dem Substrat vorgesehen ist, eine Kaverne zwischen der Zwischenschicht und dem Substrat ausgebildet ist.
PS 10 2008 044 371.9 - B81B 3/00. AT 05.12.2008; OT 10.06.2010; PT 27.10.2016. Anm.: Robert Bosch GmbH, 70469 Stuttgart, DE. Erf.: Ulbrich, Nicolaus, 72810 Gomaringen, DE.