Verfahren zur gezielten Selbstorganisation mit Immersionslithographie bei 193 nm

WP 11 2010 004 848.7 - AT 26.11.2010; OT 23.06.2011; PT 25.08.2016. Anm.: GLOBALFOUNDRIES Inc., Grand Cayman, KY. Erf.: Cheng, Joy, San Jose, Calif., US Hinsberg, William, San Jose, Calif., US Wallraff, Gregory Michael, San Jose, Calif., US Truong, Hoa, San Jose, Calif., US Sundberg, Linda Karin, San Jose, Calif., US Ito, Hiroshi, San Jose, Calif., US Sanders, Daniel Paul, San Jose, Calif., US Kim, Ho-Cheol, San Jose, Calif., US Na, Young-Hye, San Jose, Calif., US

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