Verfahren zur Herstellung einer mikromechanischen Membranstruktur mit Zugang von der Substratrückseite
Mit der vorliegenden Erfindung wird ein besonders einfaches und kostengünstiges Verfahren zur Herstelung einer mikromechanischen Membranstruktur mit Zugang von der Substratrückseite vorgeschlagen. Dieses Verfahren geht von einem p-dotierten Si-Substrat aus und umfasst die folgenden Prozessschritte: - n-Dotierung mindestens eines zusammenhängenden gitterförmigen Bereichs der Substratoberfläche, - porös Ätzen eines Substratbereichs unterhalb der n-dotierten Gitterstruktur, - Erzeugen einer Kaverne in diesem Substratbereich unterhalb der n-dotierten Gitterstruktur; - Aufwachsen einer ersten monokristallinen Silizium-Epitaxieschicht auf der n-dotierten Gitterstruktur). Es ist dadurch gekennzeichnet, - dass mindestens eine Öffnung der n-dotierten Gitterstruktur so dimensioniert wird, dass sie durch die aufwachsende erste Epitaxieschicht nicht verschlossen wird, sondern eine Zugangsöffnung zu der Kaverne bildet; - dass auf der Kavernenwandung eine Oxidschicht erzeugt wird; - dass ein Rückseitenzugang zur Kaverne erzeugt wird, wobei die Oxidschicht auf der Karvernenwandung als Ätzstoppschicht dient; und - dass die Oxidschicht im Bereich der Kaverne entfernt wird, so dass ein Rückseitenzugang zu der über der Kaverne ausgebildeten Membranstruktur entsteht.
PS 10 2008 002 332.9 - B81C 1/00. AT 10.06.2008; OT 17.12.2009; PT 09.02.2017. Anm.: Robert Bosch GmbH, 70469 Stuttgart, DE. Erf.: Kramer, Torsten, 72827 Wannweil, DE Ahles, Marcus, 72793 Pfullingen, DE Grundmann, Armin, 72762 Reutlingen, DE Knese, Kathrin, 70374 Stuttgart, DE Benzel, Hubert, 72124 Pliezhausen, DE Schuermann, Gregor, 70619 Stuttgart, DE Armbruster, Simon, 72810 Gomaringen, DE