Verfahren zur Herstellung eines mikromechanischen Bauelements mit einer Membran
Beschreibung: Die Erfindung betrifft ein mikromechnisches Bauelement mit einem Schichtaufbau auf einem Halbleitersubstrat, wobei der Schichtaufbau wenigstens eine dielektrische Membranschicht umfasst, die oberhalb einer im Halbleitersubstrat befindlichen Stützstruktur angeordnet ist. Es ist vorgesehen, dass die Stützstruktur durch eine oder mehrere Hohlsäulen, bestehend im Wesentlichen aus Siliziumoxid, gebildet ist. Die Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zur Herstellung eines derartigen mikromechanischen Bauelements. Es ist jeweils vorgesehen, dass die Stützstruktur durch eine oder mehrere Hohlsäulen, bestehend im Wesentlichen aus Siliziumoxid, gebildet ist bzw. wird.
PS 10 2005 023 699.5 – B81B 3/00. AT 23.05.2005; OT 30.11.2006; PT 07.11.2013. Anm.: Robert Bosch GmbH, 70469 Stuttgart, DE. Erf.: Schmollngruber, Peter, 71134 Aidlingen, DE, Artmann, Hans, 71034 Böblingen, DE, Schelling, Christoph, 72762 Reutlingen, DE, Kramer, Torsten, 72827 Wannweil, DE, Wagner, Thomas, 70173 Stuttgart, DE.