Atomlagenabscheidungsverfahren

EP 603 41 318.8 – C23C 16/44. AT 21.07.2003; OT 03.10.2007; PT 13.06.2012. Anm.: Micron Technology, Inc., Boise, US. Erf.: Castrovillo, Paul J., BoiseID 83706, US, Sandhu, Gurtej S., BoiseID 83706, US, Derderian, Garo J., BoiseID 83706, US, Basceri, Cem, Reston VA 20190, US.

Login

• Password vergessen

Noch kein Login?
Jetzt Abonnement abschließen und Zugriff auf Wissensdatenbanken und Premium-Inhalte erhalten.

Sie sind bereits registriert?
Als Benutzernamen verwenden Sie bitte Ihre E-Mail Adresse. Ihr Kennwort aus dem früheren WOMag-Online-Portal ist nicht mehr gültig. Bitte nutzen Sie die PASSWORT VERGESSEN Funktion damit Sie ein neues Passwort setzen können.

Verwandte Artikel

Weitere Unternehmen in der Prozesskette

Verwandte Normen

Verwandte Patente

• Behandlungsflüssigkeit zur Isolierbeschichtung von kornorientiertem elektromagnetischem Stahlblech und Verfahren zur Herstellung von kornorientiertem elektromagnetischem Stahlblech mit Isolierbeschichtung

• Verfahren zur Beschichtung eines Substrats mit einer TCO-Schicht und Dünnschichtsolarzelle

• Vorrichtung und Verfahren zum Galvanisier-Vorbehandeln eines Motorblocks

• Verfahren zur Beschichtung von Bauteilen

• Stahlprodukt mit einer Korrosionsschutzbeschichtung aus einer Aluminiumlegierung sowie Verfahren zu dessen Herstellung

• Verdampfungsquelle zum Verdampfen einer organischen elektrolumineszenten Schicht

• Zylinderblock-Metallisiervorrichtung und Abdichtungsmechanismus für diese

• Gasturbinenkomponente mit CoNiCrAl-Seltenerdbeschichtung und entsprechende Verfahren

• Zusammensetzung und Verfahren einer trivalenten Dry-In-Place korrosionsfesten Chromiumbeschichtung zur Verwendung auf Metalloberflächen

• Verfahren zur Plasmabehandlung von Glasoberflächen, dessen Verwendung sowie Glassubstrat und dessen Verwendung

Links zu diesem Artikel

Werbepartner