Anodenanordnung für die Galvanisierung

WP 60 2008 018 745.4 – C25D 17/10. AT 20.06.2008; OT 24.12.2008; PT 12.09.2012. Anm.: Metakem Gesellschaft für Schichtchemie der Metalle mbH, 61250 Usingen, DE; M.P.C. Micropulse Plating Concepts, Lyon, FR. Erf.: Wurm, Jörg, 61476 Kronberg, DE, Menard, Stephane, F-69005 Lyon, FR, Schneider, Lothar, 63607 Wächtersbach, DE.

Login

• Password vergessen

Noch kein Login?
Jetzt Abonnement abschließen und Zugriff auf Wissensdatenbanken und Premium-Inhalte erhalten.

Sie sind bereits registriert?
Als Benutzernamen verwenden Sie bitte Ihre E-Mail Adresse. Ihr Kennwort aus dem früheren WOMag-Online-Portal ist nicht mehr gültig. Bitte nutzen Sie die PASSWORT VERGESSEN Funktion damit Sie ein neues Passwort setzen können.

Verwandte Artikel

Weitere Unternehmen in der Prozesskette

Verwandte Normen

Verwandte Patente

• Verfahren zur Abscheidung von Chromschichten als Hartverchromung, Galvanisierungsbad sowie Hartverchromte Oberflächen

• Verfahren zur direkten Herstellung eines Phosphinderivats aus einem Phosphinoxidderivat

• Nicht in der Gamma-Phase vorliegendes kubisches Alcro

• Verfahren zum Herstellen einer dünnen Schicht aus porösem DLC, Verwendung einer PECVD-Anlage und mit porösem DLC beschichtetes Werkstück

• Expansionsdüse zum thermischen Spritzen und Verfahren zu deren Herstellung

• Verfahren zum Aufbringen von Nanopartikeln auf eine Unterlage

• Behandlungvorrichtung und Behandlungsverfahren zum Beizen und Phosphatieren von Metallteilen

• Verfahren und Vorrichtung zur sekundären Entzunderung des metallischen bandförmigen Behandlungsguts mit Wassersprühen und niedrigem Druck

• Verfahren zum Füllen von Durchgangslöchern

• Galvanisch dekoriertes Bauteil mit einer durch laseraktivierte Thermotransferbedruckung auf der Oberfläche aufgebrachten Symbolik, bevorzugt durchleuchtbar aufgebrachten Symbolik oder Struktur

Links zu diesem Artikel

Werbepartner