Verfahren zum stetigen oder sequentiellen Abscheiden einer dielektrischen Schicht aus der gasphase auf einem Substrat

PS 10 2011 113 751.7 - C23C 16/50. AT 19.09.2011; OT 21.03.2013; PT 01.09.2016. Anm.: HQ-Dielectrics GmbH, 89160 Dornstadt, DE. Erf.: Gschwandtner, Alexander, Dr., 80687 München, DE.

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