Verfahren zur Herstellung mikrostrukturierter Bauteile mittels Photolithographie

PS 10 2009 000 642.7 – B81C 1/00. AT 05.02.2009; OT 30.09.2010, PT 06.12.2012. Anm.: BAM Bundesanstalt für Materialforschung und -prüfung, 12205 Berlin, DE. Erf.: Dreßler, Martin, Dr., 10961 Berlin, DE.

Login

• Password vergessen

Noch kein Login?
Jetzt Abonnement abschließen und Zugriff auf Wissensdatenbanken und Premium-Inhalte erhalten.

Sie sind bereits registriert?
Als Benutzernamen verwenden Sie bitte Ihre E-Mail Adresse. Ihr Kennwort aus dem früheren WOMag-Online-Portal ist nicht mehr gültig. Bitte nutzen Sie die PASSWORT VERGESSEN Funktion damit Sie ein neues Passwort setzen können.

Verwandte Artikel

Weitere Unternehmen in der Prozesskette

Verwandte Normen

Verwandte Patente

• Mikromechanische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer mikromechanischen Vorrichtung

• Verfahren zum Herstellen einer mikroelectromechanischen Struktur

• Aufbringung durch Tauchschleudern einer strukturierten Dünnschicht auf einem Substrat

• MEMS-Mikrofon mit verbesserter Empfindlichkeit und Verfahren zur Herstellung

• Mikrostrukturierte Anordnung zur blasenfreien Befüllung zumindest eines Systems zur Ableitung von Flüssigkeiten, Vorrichtung mit einer solchen Anordnung und Befüllungsverfahren.

• MEMS-Vorrichtung mit kontrollierter Lage einer Elektrodenruhestellung

• Mikromechanisches Bauelement

• Verfahren zur Reinigung einer Walzwerkswalze und entsprechende Vorrichtung

• Verfahren zum Einkapseln einer Mikrokomponente

• Verfahren zur Herstellung von AL/GE-Bindung in einer Waferverkapselungsumgebung und daraus hergestelltes Produkt

Links zu diesem Artikel

Werbepartner