Zusammensetzung zur Metallabscheidung mit Unterdrückungsmittel zur hohlraumfreien Füllung von Submikron-Strukturmerkmalen
WP 60 2010 017 881.1 – C25D 3/38. AT 25.03.2010; OT 14.10.2010; PT 30.07.2014. Anm.: BASF SE, 67063 Ludwigshafen, DE. Erf.: Raether, Roman Benedikt, 67346 Speyer, DE, Haag, Alexandra, 91334 Hemhofen, DE, Röger-Göpfert, Cornelia, 68723 Schwetzingen, DE, Mayer, Dieter, 64297 Darmstadt, DE, Emnet, Charlotte, 70597 Stuttgart, DE.