Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten mittels Vakuumbedampfung

Beschreibung: Der Erfindung, welche die Beschichtung von Substraten mittels Vakuumbedampfung betrifft, liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und eine Vorrichtung anzugeben, die auch Hochratebeschichtungen mit dynamischen Raten über 1 μm*m/min ermöglicht und die eine selektive Beeinflussung der Eigenschaften und der Struktur zumindest einer Schicht während eines Inline-Prozesses zur Herstellung einer Schicht oder eines Schichtsystems auf einem Substrat gestatten. Zur Lösung der Aufgabe wird während der Beschichtung ein Elektronenstrahl in einer Heizzone zumindest teilweise auf das abgeschiedene Schichtmaterial gerichtet, welcher die Heizzone durch geeignete Strahlablenkung überstreicht, so dass das Schichtmaterial erwärmt wird, wobei die Heizzone innerhalb der Beschichtungszone und/oder einer sich unmittelbar daran anschließenden Nachbarzone liegt.

PS 10 2009 005 297.6 – C23C 14/54. AT 16.01.2009; OT 22.07.2010; PT 08.05.2013. Anm.: VON ARDENNE Anlagentechnik GmbH, 01324 Dresden, DE. Erf.: Reinhold, Ekkehart, 01465 Langebrück, DE, Faber, Jörg, Dr., 01809 Müglitztal, DE, Hecht, Hans-Christian, 01689 Weinböhla, DE.

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