Transparenter Leiter auf Zinkoxidbasis und Sputtertarget zur Bildung des transparenten Leiters

WP 60 2007 034 549.9 – C23C 14/08. AT 19.02.2007; OT 27.09.2007; PT 01.01.2014. Anm.: JX Nippon Mining & Metals Corp., Tokyo, JP. Erf.: Ikisawa, Masakatsu, Kitaibaraki-shi, Ibaraki 319-1535, JP, Yahagi, Masataka, Kitaibaraki-shi, Ibaraki 319-1535, JP.