Plasmaunterstütztes ALD-Verfahren sowie Vorrichtung zur Bildung einer dünnen Schicht auf einem Substrat

PS 10 2011 104 132.3 – C23C 16/455. AT 14.06.2011; OT 29.11.2012; PT 29.11.2012. Anm.: Feddersen-Clausen, Oliver, 50939 Köln, DE. Erf.: Erfinder ist Anmelder.