Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung flächiger Substrate
Beschreibung: Bei einem Verfahren zur Beschichtung flächiger Substrate in einer Vakuumkammer, bei dem eine Schicht eines Beschichtungsmaterials auf einer Oberfläche des Substrats abgeschieden wird, wird vorgeschlagen, dass über der gesamten Breite der zu beschichtenden Oberfläche des Substrats ein erstes Prozessgas in die Vakuumkammer eingelassen wird, im Bereich der Schmalseiten des Substrats ein zweites Prozessgas in die Vakuumkammer eingelassen wird und während der Beschichtung Prozessgas von den Schmalseiten des Substrats her abgesaugt wird. Die Vorrichtung zur Beschichtung flächiger Substrate umfasst eine Vakuumkammer und in der Vakuumkammer eine Beschichtungseinrichtung, eine Transporteinrichtung sowie eine erste Gaszufuhreinrichtung zum Einlass eines ersten Prozessgases über der gesamten Breite der zu beschichtenden Oberfläche des Substrats und eine zweite Gaszufuhreinrichtung zum Einlass eines zweiten Prozessgases im Bereich der Schmalseiten des Substrats, wobei im Arbeitsbereich der Beschichtungseinrichtung an mindestens einer Kammerwand der Vakuumkammer eine Saugöffnung und an der Saugöffnung mindestens eine Vakuumpumpe so angeordnet ist, dass der Vakuumpumpe eine Schmalseite des flächigen Substrats zugewandt ist.
PS 10 2008 026 000.2 – C23C 14/34. AT 29.05.2008; OT 03.12.2009; PT 22.03.2012. Anm.: VON ARDENNE Anlagentechnik GmbH, 01324 Dresden, DE. Erf.: Jochen Krause, 01309 Dresden, DE, Falk, Dr. Milde, 01109 Dresden, DE.