Filmbildungsvorrichtung und Filmbildungsverfahren

WP 60 2005 040 952.1 – C23C 14/24. AT 29.03.2005; OT 22.02.2007; PT 21.08.2013. Anm.: Ohmi, Tadahiro, Sendai-shi, JP; Tokyo Electron Limited, Tokio/Tokyo, JP. Erf.: Matsuoka, Takaaki, Tokyo Electron Limited, Tokyo 1078481, JP, Ohmi, Tadahiro, Sendai-shi, Miyagi 9800813, JP.

Login

• Password vergessen

Noch kein Login?
Jetzt Abonnement abschließen und Zugriff auf Wissensdatenbanken und Premium-Inhalte erhalten.

Sie sind bereits registriert?
Als Benutzernamen verwenden Sie bitte Ihre E-Mail Adresse. Ihr Kennwort aus dem früheren WOMag-Online-Portal ist nicht mehr gültig. Bitte nutzen Sie die PASSWORT VERGESSEN Funktion damit Sie ein neues Passwort setzen können.

Verwandte Artikel

Weitere Unternehmen in der Prozesskette

Verwandte Normen

Verwandte Patente

• Verfahren zur Verbesserung der Verschleißbeständigkeit von eingefärbten chirurgischen Instrumenten

• Verfahren zum Aufbringen einer Beschichtung auf Werkstücke und/oder Werkstoffe aufweisend mindestens ein leicht oxidierbares Nichteisenmetall sowie Werkstück und/oder Werkstoff hergestellt nach dem Verfahren

• Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von galvanischen Bädern zur Abscheidung von Metallen

• Verfahren zur Anwendung eines Bildes eines elektrisch leitenden Materials auf ein Aufzeichnungsmedium, und Vorrichtung zum Auswerfen von Tröpfchen einer elektrisch leitenden Flüssigkeit

• Herstellungsverfahren für Eisen-Gold-Barcode-Nanodraht

• Verfahren zur Herstellung eines plattierten Materials mit einem durch stromfreie Plattierung geformten Metalldünnfilm

• Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung von Bauteilen

• Korrosionshemmer zur Behandlung von geschlosseen Schlaufensystemen

• PICVD-Beschichtung für Kunststoffbehälter und Verfahren zu deren Herstellung

• Vorrichtung und Verfahren zur Atomschichtablagerung

Links zu diesem Artikel

Werbepartner