Vorrichtung zur vertikalen galvanischen Ablagerung eines Metalls, vorzugsweise Kupfer, auf einem Substrat und zur Aufnahme solch einer Vorrichtung geeigneter Behälter

EP 60 2012 020 597.0 - C25D 17/00. AT 20.12.2012; OT 25.06.2014; PT 20.07.2016. Anm.: Atotech Deutschland GmbH, 10553 Berlin, DE. Erf.: Rauenbusch, Ralph, 92318 Neumarkt, DE Thomas, Christian, 91058 Erlangen, DE Weinhold, Ray, 90475 Nürnberg, DE Klingl, Heinz, 86356 Neusäss, DE

Login

• Password vergessen

Noch kein Login?
Jetzt Abonnement abschließen und Zugriff auf Wissensdatenbanken und Premium-Inhalte erhalten.

Sie sind bereits registriert?
Als Benutzernamen verwenden Sie bitte Ihre E-Mail Adresse. Ihr Kennwort aus dem früheren WOMag-Online-Portal ist nicht mehr gültig. Bitte nutzen Sie die PASSWORT VERGESSEN Funktion damit Sie ein neues Passwort setzen können.

Verwandte Artikel

Weitere Unternehmen in der Prozesskette

Verwandte Normen

Verwandte Patente

• Gehäuse für eine elektronische Vorrichtung und Herstellungsverfahren dafür

• Vorrichtung zur elektrochemischen Abscheidung eines Metalls

• Lösung zur Elektrotauchbeschichtung einer Goldlegierung sowie daraus erhaltene Legierung

• PICVD-Beschichtung für Kunststoffbehälter

• Bauteil mit einer Beschichtung und Verfahren zu seiner Herstellung

• Verfahren zum Vakuumbeschichten eines Substrates mit einem transparenten leitfähigen Metallegierungsoxid sowie eine transparente leitfähige Schicht aus einem Metallegierungsoxid

• Kolbenring

• Metallteil und Herstellungsverfahren für das Metallteil

• Verfahren zur Herstellung einer reibwerterhöhenden Beschichtung mittels Atmosphärendruckplasma

• Beschichtungszusammensetzung

Links zu diesem Artikel

Werbepartner