Verfahren zum Beschichten von Gegenständen mit Wechselschichten
Beschreibung: Bei CVD-Verfahren, umfassend PECVD und PICVD-Verfahren, soll durch die Erfindung die verunreinigungsfreie, möglichst zeitlich und mengenmäßig präzise Zufuhr von Prozessgasen für die angestrebten Schichtsysteme verbessert werden. Dazu sieht die Erfindung eine Beschichtungsanlage und ein Verfahren zum Beschichten von Gegenständen mit Wechselschichten vor, bei welchen in einen Gasmischpunkt abwechselnd Prozessgase eingeleitet und mit einem weiteren Gas gemischt und zur Reaktionskammer geleitet werden, in welcher die Abscheidung durch Erzeugung eines Plasmas durchgeführt wird.
PS 10 2007 037 527.3 – C23C 16/455. AT 09.08.2007; OT 15.05.2008; PT 08.05.2013. Anm.: SCHOTT AG, 55122 Mainz, DE. Erf.: Küpper, Thomas, 37581 Bad Gandersheim, DE, Bewig, Lars, Dr., 37581 Bad Gandersheim, DE, Moelle, Christoph, Dr., 37581 Bad Gandersheim, DE.