Verfahren zur Herstellung von orientierten Schichten aus Tantaloxid

WP 60 2009 032 112.9 - C23C 16/40. AT 08.07.2015; OT 10.12.2009; PT 08.07.2015. Anm.: Micron Technology, Inc., Boise, Id., US. Erf.: Bhat, Vishwanath, BoiseID 83716, US; Antonov, Vassil, BoiseID 83706, US.