Verfahren zum Wachstum von metallischen Partikeln mittels galvanisieren mit in situ Inhibitionsphase

WP 60 2012 007 651.8 - C25D 3/50. AT 18.04.2012; OT 01.11.2012; PT 27.05.2015. Anm.: Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives, Paris, FR; King Saud University, Riyadh, SA. Erf.: Fouda-Onana, Frédéric, Le Moule 97160, FR; Guillet, Nicolas, F-26300 Chatuzange Le Goubet, FR.

Login

• Password vergessen

Noch kein Login?
Jetzt Abonnement abschließen und Zugriff auf Wissensdatenbanken und Premium-Inhalte erhalten.

Sie sind bereits registriert?
Als Benutzernamen verwenden Sie bitte Ihre E-Mail Adresse. Ihr Kennwort aus dem früheren WOMag-Online-Portal ist nicht mehr gültig. Bitte nutzen Sie die PASSWORT VERGESSEN Funktion damit Sie ein neues Passwort setzen können.

Verwandte Artikel

Weitere Unternehmen in der Prozesskette

Verwandte Normen

Verwandte Patente

• Hochtemperatur-Elektrolysator (HTE) mit erhöhter Betriebssicherheit

• Hydrophiler Dlc auf Substrat mit Barriereentladungspyrolysebehandlung

• Vorrichtung zur Beobachtung eines Bereichs eines heißen Metallbandes und/oder Schmelzbades in einem Bandbehandlungsprozess

• Verfahren zum Elektroplattieren gleichmäßiger Kupferschichten an den Kanten und Seitenwänden von Durchgangslöchern eines Substrats

• Beschichtungsanordnung

• Verfahren zur Herstellung eines abgeschreckten Stahlbauelements, abgeschrecktes Bauelement, und Verwendung eines Mittels zum Schützen der Oberfläche in einem Verfahren zum Herstellen eines abgeschreckten Stahlbauelements

• Substrathalter für scheiben-oder plattenförmige Substrate und Vakuumbehandlungsanlage mit einer vertikalen Substrattransporteinrichtung

• Verfahren zur Beschichtung eines Bauteils und Bauteil

• System und Verfahren zur galvanischen Abscheidung

• PICVD-Beschichtung für Kunststoffbehälter

Links zu diesem Artikel

Werbepartner