Verfahren zur Beschichtung von Substraten und eine damit erstellte Oberfläche
Beschreibung: Verfahren zur Erzeugung von Quantenstrukturen bzw./und diskontinuierlichen Nano-Metallinseln auf Substraten mit den Schritten: Abtragen von Verunreinigungen und/oder Oxidschichten von einer Substratoberfläche und Strukturierung sowie gleichzeitiger Deposition von aktiven Atom- bzw. Molekülclustern, wobei eine in-situ Reinigung, Strukturierung und Ablagerung von Clustern zur Schaffung photovoltaisch, photoelektrochemisch und/oder elektrokatalytisch aktiver Oberflächen aus einem hochionisierten Metallplasma unter Anlegen einer Spannung größer 200 V am Substrat gleichzeitig erfolgen und eine hohe Metallionendichte von mehr als 70% geladener Ionen im Plasma der abzuscheidenden Metallatome vorliegt.
PS 10 2007 041 374.4 – C23C 14/48. AT 30.08.2007; OT 05.03.2009; PT 16.05.2012. Anm.: o.m.t. Oberflächen- und Materialtechnologie GmbH, 23569 Lübeck, DE. Erf.: Detlev, Dr. Repenning, 21465 Reinbek, DE, Torsten, Dr. Will, 23623 Ahrensbök, DE, Edgar Illgen, 23554 Lübeck, DE, Nils Bonhoff, 23558 Lübeck, DE.