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Literatur über diese Qualifikation

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Zur Oxidation von Zinn(II) in Methansulfonatlösungen und dem Einfluss von Sulfat

Ein?üsse auf die Lötbarkeit von chemisch Nickel/Sudgold

Einsatzmöglichkeiten von kaltgasgespritzten Schichten in der Luft- und Raumfahrtindustrie

Neue Systemtechnik für die chemische Vernickelung

Innovative Prozesstechnologien zur Herstellung 2D polymerer Photonischer Kristalle

Chemisch-physikalische Behandlung von stark organisch verunreinigtem Abwasser

Elektrolytisch abgeschiedene Nickel-Phosphor-Legierungen - Funktionswerkstoffe mit unterschätztem Potential?

Nanopartikelhaltige Passivierungen

Neuer Elektrolyt für Galvano-Aluminium mit höchsten Abscheidungsraten und bester Streufähigkeit

Verfahren zur stromlosen chemischen Vernickelung mit induktiver Erhitzung der Werkstücke

Linienintegrierte Bauteilbeschichtung: Hartchromtechnologie unter ökonomischen und ökologischen Aspekten

Systeme in der Galvanotechnik

Neue sulfatfreie chemisch Nickel-Verfahren

Fluidische Anwendungen der Mikrotechnik in der Biomedizin

Richtigkeit und Rückführbarkeit bei der Schichtanalyse mit Röntgen?uoreszenz

Sanitäroberflächen mit Effektbeschichtung

Dispersionsschichten - Mechanismen und Möglichkeiten technischer Nutzung

Bleifreie Schichten für Lageranwendungen

Oberflächenbehandlung von Leichtmetallen durch Laserauftragschweißen

Mikroabformung in Kunststoff, Metall und Keramik

Unternehmen mit dieser Qualifikation

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Hiden Analytical Ltd.

AGTOS Gesellschaft für technische Oberflächensysteme mbH

Carl Zeiss Industrielle Messtechnik GmbH

Büchner Barella Assekuranzmakler GmbH

AVAtec GmbH

MAW Werkzeugmaschinen GmbH

Perfect Finish GmbH

Walther Trowal GmbH & Co. KG

Spaleck Oberflächentechnik GmbH & Co. KG

Schnarrenberger Gruppe GmbH

Rösler Oberflächentechnik GmbH

Micro Surfaces GmbH

Assfalg GmbH

BIAX Schmid & Wezel GmbH & Co. KG

Sampas GmbH

ISRA VISION AG

Mahr GmbH

OGP Messtechnik GmbH

Dechema Forschungsinstitut - Stiftung bürgerlichen Rechts

Fraunhofer-Institut für Physikalische Messtechnik IPM

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