Verfahren zur Regelung nanoskaliger elektronenstrahlinduzierter Abscheidungen

Beschreibung: Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung, mit denen die elektronenstrahlinduzierte Abscheidung von nicht flüchtiger Substanz aus einer gasförmigen Vorläufersubstanz auf einer Substratoberfläche geregelt werden kann. Erfindungsgemäß wird ein Primärelektronenstrahl geregelt bzw. gesteuert auf die Substratoberfläche eingestrahlt und führt dort zur Erzeugung von Sekundärelektronen, die wiederum die Reaktion der Vorläufersubstanz zur Abscheidung auf der Substratoberfläche auslösen. Als Regel- oder Steuerungssignal für die Bewegung des Primärelektronenstrahls wird das Signal eines Sekundärelektronendetektors eingesetzt. Das Signal des Sekundärelektronendetektors wird während der Abscheidung aufgenommen und erlaubt eine zeitlich unmittelbare rechnergestützte Steuerung und/oder Regelung des Primärelektronenstrahls und damit der Rate und örtlichen Auflösung der Abscheidung von Substanz aus der Vorläufersubstanz auf der Substratoberfläche.

PS 10 2006 054 695.4 – C23C 16/52. AT 17.11.2006; OT 21.05.2008; PT 15.05.2014. Anm.: Carl von Ossietzky Universität Oldenburg, 26129 Oldenburg, DE. Erf.: Wich, Thomas, 26129 Oldenburg, DE, Luttermann, Tim, 26129 Oldenburg, DE.