Erhöhung der Hochtemperaturoxidationsbeständigkeit von TiAl-Legierungen und daraus bestehenden Bauteilen durch Pl↑3↑

Beschreibung: Die Plasma-Immersion-Ionen-Implantation (Pl3) von Fluor, das aus z. B. einem CH2F2-Plasma generiert wurde, in die Oberfläche von TiAl-Bauteilen kann deren Oxidationsbeständigkeit im Temperaturbereich von 700 bis 1100°C an trockener und feuchter Luft oder anderen oxidierenden Atmosphären auch unter Temperaturwechselbeanspruchung gegenüber unbehandelten TiAl-Legierungen deutlich erhöhen. Entgegen dem bisherigen Kenntnisstand, wo nur die reinen Halogene verwendet wurden, lässt sich durch Verwendung von z. B. Difluormethan oder Tetrafluorkohlenstoff ein deutlich vereinfachter Ionen-Implantationsprozess durchführen als bei reiner Fluorimplantation, ohne eine Beeinträchtigung des positiven Fluoreffekts zu erzielen. Das Fluor wird in kontrollierbaren Mengen in die Oberflächenrandzone von TiAl-Bauteilen implantiert, wo es seinen positiven Effekt auf den Oxidationswiderstand entfaltet.

PS 10 2008 028 990.6 – C23C 14/48. AT 20.06.2008; OT 11.02.2010; PT 06.02.2014. Anm.: DECHEMA Gesellschaft für Chemische Technik und Biotechnologie e.V., 60486 Frankfurt, DE; Helmholtz-Zentrum Dresden - Rossendorf e.V., 01328 Dresden, DE. Erf.: Kolitsch, Andreas, Dr., 01833 Dürrröhrsdorf-Dittersbach, DE, Yankov, Rossen, Dr., 01097 Dresden, DE, Donchev, Alexander, Dr., 61137 Schöneck, DE, Schütze, Michael, Prof. Dr., 63741 Aschaffenburg, DE.