Beschichtungsanlage mit Aktivierungselement, deren Verwendung sowie Verfahren zur Abscheidung einer Beschichtung

Beschreibung: Die Erfindung betrifft eine Beschichtungsanlage, enthaltend zumindest einen evakuierbaren Rezipienten, welcher zur Aufnahme eines Substrates vorgesehen ist, eine Gaszufuhreinrichtung, mittels welcher zumindest ein gasförmiger Prekursor in den Rezipienten einleitbar ist und zumindest ein beheizbares Aktivierungselement, welches ein Material enthält, welches zumindest zwei verschiedene chemische Elemente enthält, welche ausgewählt sind aus Ti, V, Cr, Zr, Nb, Mo, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir oder Pt. Weiterhin betrifft die Erfindung Verfahren zur Herstellung eines solchen Aktivierungselementes und Verfahren zu dessen Verwendung.

PS 10 2009 015 545.7 – C23C 16/452. AT 30.03.2009; OT 09.09.2010; PT 17.10.2013. Anm.: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., 80686 München, DE. Erf.: Schäfer, Lothar, Dr., 38527 Meine, DE, Harig, Tino, 38685 Langelsheim, DE, Höfer, Markus, Dr., 38162 Cremlingen, DE, Laukart, Artur, Dipl.-Ing., 38112 Braunschweig, DE.