Durch ein Plasma-CVD-Verfahren gebildeter CVD-Film und Verfahren zu dessen Bildung
EP 60 2004 041 228.7 – C23C 16/40. AT 23.03.2004; OT 27.04.2006; PT 06.03.2013. Anm.: Toyo Seikan Kaisha, Ltd., Tokyo, JP. Erf.: Kurashima, Hideo, Toyo Seikan Group Corporate R&D, Yokohama-shi, Kanagawa 2400062, JP, Inagaki, Hajime, Toyo Seikan Group Corporate R&D, Yokohama-shi, Kanagawa 2400062, JP, Namiki, Tsunehisa, Toyo Seikan Group Corporate R&D, Yokohama-shi, Kanagawa 2400062, JP, Hosono, Hiroko, Toyo Seikan Group Corporate R & D, Yokohama-shi, Kanagawa 2400062, JP, Ieki, Toshihide, Toyo Seikan Group Corporate R&D, Yokohama-shi, Kanagawa 2400062, JP, Kobayashi, Akira, Toyo Seikan Group Corporate R&D, Yokohama-shi, Kanagawa 2400062, JP.