Verfahren zur Herstellung photokatalytisch aktiver Titandioxidschichten
Beschreibung: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung photokatalytisch aktiver Titandioxidschichten auf Substratoberflächen. Aufgabe der Erfindung ist es, den Aufwand für die Herstellung photokatalytisch aktiver Titandioxidschichten zu reduzieren und die Auswahl für die Beschichtung geeigneter Substratwerkstoffe zu vergrößern. Beim erfindungsgemäßen Verfahren werden mittels Gasphasen-Hydrolyse eine in der Gasphase vorliegende Titanverbindung und Wasserdampf auf ein vorerwärmtes Substrat gerichtet und durch chemische Reaktion eine Titandioxidschicht auf der Oberfläche des Substrates ausgebildet. Dabei werden die Titanverbindung und Wasserdampf voneinander getrennt so zugeführt, dass eine Strömungsgeschwindigkeit von mindestens 0,5 m/s erreicht und die Zeit zwischen dem ersten Kontakt der beiden Gase bis zum Auftreffen auf die Oberfläche des Substrates kleiner 0,05 s gehalten wird und dabei die photokatalytisch aktive Titandioxidschicht auf der Substratoberfläche ausgebildet wird.
PS 10 2008 052 098.5 – C23C 16/40. AT 14.10.2008; OT 15.04.2010; PT 04.04.2013. Anm.: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., 80686 München, DE. Erf.: Abendroth, Thomas, 01187 Dresden, DE, Althues, Holger, Dr., 01309 Dresden, DE, Kaskel, Stefan, Prof. Dr., 01159 Dresden, DE, Dani, Ines, Dr., 09244 Lichtenau, DE.