Verfahren zum Beschichten eines Substrats
Beschreibung: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Beschichten eines Substrats, bei dem aus einem Arbeitsgas ein Plasmastrahl erzeugt wird, bei dem mindestens ein Precursormaterial dem Arbeitsgas und/oder dem Plasmastrahl zugeführt und im Plasmastrahl zur Reaktion gebracht wird und bei dem mindestens ein Reaktionsprodukt mindestens eines der Precursoren auf mindestens einer Oberfläche des Substrats und/oder auf mindestens einer auf der Oberfläche angeordneten Schicht abgeschieden wird, wobei mindestens eine der abgeschiedenen Schichten die optischen Transmissionseigenschaften des Substrats verbessert.
PS 10 2007 025 152.3 – C23C 16/453. AT 29.05.2007; OT 04.12.2008; PT 09.02.2012. Anm.: Innovent e.V., 07745 Jena, DE. Erf.: Andreas, Dr. Heft, 07545 Gera, DE, Andreas Pfuch, 99510 Apolda, DE, Arnd Schimanski, 44329 Dortmund, DE, Bernd Grünler, 07937 Zeulenroda-Triebes, DE, Martin Polster, 07952 Pausa, DE.