Galvanisches Bad, Verfahren zur galvanischen Abscheidung und Verwendung einer bipolaren Membran zur Separation in einem galvanischen Bad

WP 50 2008 008 330.8 – C25D 3/22. AT 15.12.2008; OT 25.06.2009; PT 03.10.2012. Anm.: Coventya GmbH, 33334 Gütersloh, DE. Erf.: Jimenez, Alexander, 51429 Bergisch Gladbach, DE, Trenkner, Hartmut, 04910 Elsterwerda, DE.

Login

• Password vergessen

Noch kein Login?
Jetzt Abonnement abschließen und Zugriff auf Wissensdatenbanken und Premium-Inhalte erhalten.

Sie sind bereits registriert?
Als Benutzernamen verwenden Sie bitte Ihre E-Mail Adresse. Ihr Kennwort aus dem früheren WOMag-Online-Portal ist nicht mehr gültig. Bitte nutzen Sie die PASSWORT VERGESSEN Funktion damit Sie ein neues Passwort setzen können.

Verwandte Artikel

Weitere Unternehmen in der Prozesskette

Verwandte Normen

Verwandte Patente

• Halogenhaltige Schichten

• PVD-Verfahren zum Abscheiden einer Beschichtung auf ein Werkstück und mit dem Verfahren hergestelltes Werkstück

• Herstellungsverfahren für hoch geordnete Arrays von Nanolöchern in Metallfilmen

• Durchlauf-Substratbehandlungsanlage und Reinigungsverfahren

• Verfahren zur Beschichtung einer Galvanoform sowie beschichtete Galvanoform

• Turbinenbauteil mit einer umweltschützenden Beschichtung

• Magnesiumreparatur und -aufbau

• Vorrichtung zur Verwendung in einem Verfahren zur Herstellung einer Schutzschicht und Verfahren zur Herstellung einer Schutzschicht

• Verfahren zur Erzeugung einer lokalen Beschichtung

• Elektropolierverfahren

Links zu diesem Artikel

Werbepartner