Verfahren zur Bildung einer tantalumhaltigen Schicht auf einem Substrat

WP 60 2009 022 988.5 – C23C 16/455. AT 15.07.2009, OT 04.02.2010; PT 02.04.2014. Anm.: L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude, Paris, FR. Erf.: Pinchart, Audrey, F-92160 Antony, FR, Blasco, Nicolas, F-38000 Grenoble, FR, Correia-Anacleto, Anthony, F-94700 Maisons-alfort, FR, Wang, Ziyun, Newark, Delaware 19702, US, Zauner, Andreas, F-78960 Voisins Le Bretonneux, FR.

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