Schauerkopf und Substratbearbeitungsvorrichtung
Beschreibung: Es wird ein Schauerkopf in einer Bearbeitungskammer zum darin Bearbeiten eines Substrats bereitgestellt. Ferner weist der Schauerkopf eine Vorderoberfläche auf, die einem Anbringtisch zum darauf Anbringen des Substrats zugewandt ist, und dazu dient, ein oder mehrere Gase durch die Vorderoberfläche zu dem Substrat zuzuführen. Der Schauerkopf enthält eine mittlere Gaszufuhreinheit zum Zuführen eines ersten Gases durch einen mittleren Abschnitt der Vorderoberfläche zu dem Substrat, eine Umfangsgaszufuhreinheit zum Zuführen eines zweiten Gases durch einen Umfangsabschnitt der Vorderoberfläche zu dem Substrat und eine Gasabsaugeinheit, die mit einer Mehrzahl von Gasabsaugöffnungen vorgesehen ist, die zwischen der mittleren und der Umfangsgaszufuhreinheit ausgebildet sind, zum Absaugen des ersten und des zweiten Gases von der Vorderoberfläche.
PS 10 2009 012 878.6 – C23C 16/455. AT 12.03.2009; OT 17.09.2009; PT 30.04.2014. Anm.: Tokyo Electron Limited, Tokio/Tokyo, JP. Erf.: Iizuka, Hachishiro, Nirasaki, JP, Kiriishi, Fumiko, Nirasaki, JP, Komiyama, Tsuyoshi, Nirasaki, JP.