Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden einer von Prozessgas stammenden Materialschicht auf einer Substratscheibe

PS 10 2011 007 632.8 – C23C 16/458. AT 18.04.2011; OT 16.02.2012; PT 16.02.2012. Anm.: Siltronic AG, 81737 München, DE. Erf.: Georg Brenninger, 84564 Oberbergkirchen, DE, Alois Aigner, 84533 Marktl, DE, Christian Hager, 84556 Kastl, DE.

Login

• Password vergessen

Noch kein Login?
Jetzt Abonnement abschließen und Zugriff auf Wissensdatenbanken und Premium-Inhalte erhalten.

Sie sind bereits registriert?
Als Benutzernamen verwenden Sie bitte Ihre E-Mail Adresse. Ihr Kennwort aus dem früheren WOMag-Online-Portal ist nicht mehr gültig. Bitte nutzen Sie die PASSWORT VERGESSEN Funktion damit Sie ein neues Passwort setzen können.

Verwandte Artikel

Weitere Unternehmen in der Prozesskette

Verwandte Normen

Verwandte Patente

• Verfahren zur Herstellung einer Form und Verfahren zur Herstellung eines Antireflexionsfilms unter Verwendung der Form

• Verbessertes ermüdungsfestes Orthopädisches Implantat mit poröser Beschichtung und Herstellungsmethode

• Bad zur galvanischen Abscheidung von Goldlegierungen sowie dessen Verwendung

• Schutzvorrichtung für Metallkonstruktionen

• Verfahren zur nasschemischen Vorbehandlung einer Vielzahl von Eisen- und Aluminiumbauteilen in Serie

• Galvanische Abscheidung von Zink und Zinklegierungen

• Verchromtes Teil und Herstellungsverfahren dafür

• Thermische Sprühpulverzusammensetzungen für abreibbare Dichtung und Betriebsverfahren

• Verfahren zum Korrosionsschutz von eisenhaltigen Materialien

• Plasma kugelgeformtes keramisches Pulver

Links zu diesem Artikel

Werbepartner