Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung und Bearbeitung von Schichten auf Substraten unter definierter Prozessatmosphäre und Heizelement
Beschreibung: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Prozessatmosphäre für die Beschichtung von Substraten, wobei dieses Verfahren vorrangig bei CVD-Prozessen zur Abscheidung einer Einzelschicht oder eines Systems von Einzelschichten unter definierten Prozessatmosphären zur Anwendung kommt, indem in einer Beschichtungskammer Prozessgas definiert zugeführt und abgesaugt wird. Mittels des Verfahrens und der Vorrichtungen soll flexibel, zuverlässig und homogen und mit verringertem Wartungs- und Energieaufwand eine differenzierbare Prozessatmosphäre innerhalb der Beschichtungskammer einstellbar sein und zwar auch bei erwärmtem Substrat. Die Aufgabe wird dadurch gelöst, dass das Prozessgas mittels zumindest eines sich quer zum Substrat erstreckenden Gaskanals durch Prozessgaszufuhr oder Absaugung eine Gasströmung erzeugt wird, die eine laterale Ausdehnung in der Breite des Substrats aufweist.
PS 10 2008 026 001.0 – C23C 14/56. AT 29.05.2008; OT 09.04.2009; PT 16.02.2012. Anm.: VON ARDENNE Anlagentechnik GmbH, 01324 Dresden, DE. Erf.: Hubertus, von der Waydbrink, 01326 Dresden, DE, Michael Hentschel, 01189 Dresden, DE, Marco Kenne, 01987 Schwarzheide, DE, Andrej Wolf, 01309 Dresden, DE.