Verwendung einer Schicht

Beschreibung: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Beschichtung eines Substrats, bei dem mindestens ein Precursor einem Arbeitsgas und/oder einem Plasmastrahl und/oder einer Flamme zugeführt und im Plasmastrahl oder in der Flamme zur Reaktion gebracht wird, wobei einer der Precursoren Silizium oder eine Siliziumverbindung umfasst, wobei einer der Precursoren Phosphor oder eine Phosphorverbindung umfasst, wobei Silizium und Phosphor enthaltende Reaktionsprodukte auf einer Oberfläche des Substrats in mindestens einer Schicht abgeschieden werden.

PS 10 2008 060 923.4 – C23C 16/453. AT 06.12.2008; OT 10.06.2010; PT 27.09.2012. Anm.: Innovent e.V., 07745 Jena, DE. Erf.: Arnd, Dr. Schimanski, 99085 Erfurt, DE, Bernd Dr. Grünler, 07937 Zeulenroda-Triebes, DE, Andreas Dr. Pfuch, 99510 Apolda, DE, Andreas Dr. Heft, 07545 Gera, DE, Martin Polster, 07952 Pausa, DE.