Fachwörter-Lexikon
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Schleifen - industriell
Industrielles Schleifen läuft nach vorgegebenen Bearbeitungsparametern ab und wird durch begleitendes Vermessen der Rauheit - zum Beispiel mittels Tastschnittverfahren. Hierbei werden beispielsweise neben Schleifen zum Glätten unter Einsatz von Schleifbändern auch Verfahren wie das Schleifen in Trommeln oder das Präzisionsschleifen von Walzen oder Werkzeugen angewandt. Vor allem das Schleifen in Vibrationseinrichtungen hat sich in breiterem Maße durchgesetzt, um Guss- oder Trenngrate zu entfernen. Das Verfahren ist sehr gut für das Automatisieren geeignet und arbeitet beispielsweise mit automatischer Befüllung und Entleerung.
Werkstoffverbunde
Erzeugnisse, die meist aus Schichten fest miteinander verbundener, unterschiedlicher Werkstoffe bestehen und als solche auch makroskopisch erkennbar sind. Es handelt sich nicht um einen einheitlichen (homogenen) Körper. Der größte Anteil an Werkstoffverbunden sind (flächenhafte) Schichtverbunde. Ihre Komponenten werden häufig durch Fügen (z.B. Sprengplattieren, Warmpressen, Walzplattieren oder Kleben) miteinander unlösbar verbunden. Jedoch sind auch Beschichtungsverfahren wie Galvanisieren oder Metallspritzen üblich. Beispiele für Werkstoffverbunde: Stahlbeton, verzinktes, plattiertes oder kunststoffbeschichtetes Blech, Bimetalle (z.B. Thermobimetalle als Schaltkontakte), Hartgewebe, Hartpapier oder Kunststoffpressholz (z.B. für den Modellbau), metalldrahtverstärktes Glas (Sicherheitsglas).
Sputtern
Beim Sputtern erfolgt die physikalische Beschichtung in vergleichbaren Einrichtungen wie das Bedampfen im Vakuum, aber mit Unterstützung eines elektrischen Feldes. Das zu verdampfende Material wird im Vakuum ionisiert, indem eine hohe Spannung zwischen der Quelle und einem Gitter in der Nähe der Quelle angelegt wird (z.B. 500 bis 1000 V). Durch die angelegte Spannung können die in die Gasphase beförderten und ionisierten Beschichtungsmaterialien in ihrer Bewegung gesteuert werden. Durch Einsatz des Gitters als Gegenpol erfolgt zwischen Verdampfungsquelle (Target) und Gitter die Beschleunigung der Ionen, die anschließend weiter auf das eigentliche, zu beschichtende Grundmaterial auftreffen und dort die Beschichtung bilden. Die Beschichtungsgeschwindigkeit sowie der mikrokristalline Aufbau der Schicht können durch Anlegen einer weiteren elektrischen Spannung zwischen dem zu beschichtenden Grundwerkstoff und dem Gitter oder dem Target beeinflusst werden. Des Weiteren wird die Art der Beschichtung durch zugegebene gasförmige Komponenten variiert. So werden beispielsweise durch Verdampfen von Titan und gezielte Zugabe von Stickstoff in die Vakuumkammer Titannitridschichten erzeugt.
Aufbau einer PVD-Kammer für das Magnetronsputtern beziehungsweise das reaktive Sputtern / Bildquelle: M. Kommer