Trockenätzverfahren und Trockenätzvorrichtung
Beschreibung: Substratverarbeitungsvorrichtung zum Aufrauen der Oberfläche eines Substrates mittels eines Trockenätzverfahrens, indem die Oberfläche des zu verarbeitenden Substrates mit einer Platte bedeckt wird, die mit einer Anzahl von Öffnungsabschnitten versehen ist. Die Platte ist mit den Öffnungsabschnitten derart ausgestattet, dass ein Offenflächenverhältnis der Öffnungsabschnitte an einem Umfangsabschnitt kleiner ist als ein Offenflächenverhältnis der Öffnungsabschnitte in einem mittleren Abschnitt, wenn die Platte in Draufsicht betrachtet wird. Es ist demzufolge möglich, Texturen an der Oberfläche des Substrates effizient und homogen zu bilden, was es wiederum ermöglicht, hocheffiziente Solarzellen oder dergleichen zu niedrigen Kosten herzustellen.
PS 103 40 147.4 – C23F 4/00. AT 26.08.2003; OT 15.04.2004; PT 10.04.2014. Anm.: Kyocera Corp., Kyoto, JP. Erf.: Inomata, Yosuke, Yokaichi, JP, Shirasawa, Katsuhiko, Yokaichi, JP.