Verfahren zum zum Beschichten eines Substrates innerhalb einer Vakuumkammer mittels plasmaunterstützter chemischer Dampfaabscheidung

WP 50 2011 010 791.9 - C23C 14/34. AT 07.04.2011; OT 20.10.2011; PT 28.09.2016. Anm.: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., 80686 München, DE. Erf.: Fahland, Matthias, 01257 Dresden, DE Bunk, Sebastian, 01217 Dresden, DE Fahlteich, John, 01279 Dresden, DE Blüthner, Ralf, 01445 Radebeul, DE Zeibe, Rainer, 01471 Radeburg, DE

Login

Noch kein Login?
Jetzt Abonnement abschließen
und Zugriff auf Wissensdatenbanken und Premium-Inhalte erhalten.
Sie sind bereits registriert?
Als Benutzernamen verwenden Sie bitte Ihre E-Mail Adresse. Ihr Kennwort aus dem früheren WOMag-Online-Portal ist nicht mehr gültig. Bitte nutzen Sie die PASSWORT VERGESSEN Funktion damit Sie ein neues Passwort setzen können.

Verwandte Artikel

Weitere Unternehmen in der Prozesskette

Verwandte Normen

Verwandte Patente

Links zu diesem Artikel

Werbepartner

Top