Verfahren zum zum Beschichten eines Substrates innerhalb einer Vakuumkammer mittels plasmaunterstützter chemischer Dampfaabscheidung

WP 50 2011 010 791.9 - C23C 14/34. AT 07.04.2011; OT 20.10.2011; PT 28.09.2016. Anm.: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., 80686 München, DE. Erf.: Fahland, Matthias, 01257 Dresden, DE Bunk, Sebastian, 01217 Dresden, DE Fahlteich, John, 01279 Dresden, DE Blüthner, Ralf, 01445 Radebeul, DE Zeibe, Rainer, 01471 Radeburg, DE