Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung von Substraten unter Verwendung einer Gasseparation
Beschreibung: Es werden Verfahren und eine Vorrichtung zur kontinuierlichen Behandlung flacher Substrate beschrieben, wobei ein Substrat durch eine Vakuumanlage transportiert und dabei behandelt wird und eine Gasseparation mittels eines Strömungswiderstands erfolgt. Zur platz- und energiesparenden Realisierung der Gasseparation auch für hohe Gasseparationsfaktoren und einer Erwärmung von Substraten in der Anlage wird ein Substrat innerhalb des Strömungswiderstands mittels dessen Wandung einer Erwärmung unterzogen.
PS 10 2009 011 495.5 – C23C 14/56. AT 06.03.2009; OT 09.09.2010; PT 18.07.2013. Anm.: VON ARDENNE Anlagentechnik GmbH, 01324 Dresden, DE. Erf.: Wolf, Andrej, 01309 Dresden, DE, Klooß, Matthias, 01127 Dresden, DE, Smolke, Matthias, Dr., 04299 Leipzig, DE, Strümpfel, Johannes, Dr., 01324 Dresden, DE, Waydbrink, Hubertus von der, 01326 Dresden, DE, Gottsmann, Lutz, 01900 Großröhrsdorf, DE.