Oberflächenbehandlung durch elektrische Entladungen

WP 60 2010 022 920.3 – C22C 1/05. AT 02.09.2010; OT 10.03.2011; PT 04.03.2015. Anm.: IHI Corp., Tokyo, JP. Erf.: Kubushiro, Keiji, Tokyo 135-8710, JP, Ochial, Hiroyuki, Tokyo 135-8710, JP, Watanabe Mitsutoshi, Tokyo 135-8710, JP, Yoshizawa, Hiroki, Tokyo 135-8710, JP, Nomura, Kyouhei, Tokyo 135-8710, JP, Shimoda, Yukihiro, Tokyo 135-8710, JP, Ukai, Hidemi, Tokyo 135-8710, JP.

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