Verfahren und Vorrichtung zur Filmherstellung und Reinigungsverfahren

EP 602 42 439.9 – C23C 14/12. AT 10.12.2002; OT 18.06.2003; PT 21.03.2012. Anm.: Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd., Atsugi, JP. Erf.: Shunpei, Yamazaki, Semicon. Energy Lab. Co., Ltd., Kanagawa-ken 243-0036, JP, Masakazu, Murakami, Semicon. Energy Lab. Co.,Ltd., Kanagawa-ken 243-0036, JP.