Vorrichtung zur plasmachemischen Gasphasenabscheidung auf Substrate im Vakuum

Beschreibung: Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur plasmachemischen Gasphasenabscheidung auf Substrate im Vakuum. Sie kann vorteilhaft bei großformatigen Oberflächen von Substraten eingesetzt werden. Dabei ist es Aufgabe der Erfindung, Möglichkeiten für die Reinigung innerhalb von Vakuumkammern zu schaffen, mit denen die hierfür erforderliche Zeit reduziert und möglichst eine Vakuumunterbrechung vermieden werden kann. Zur Lösung ist dabei um einen Plasmabildungsbereich eine Reaktionskammer mit mindestens einer Prozessgaszuführung und Ein- und Ausführöffnungen für Substrate vorhanden. Eine HF-Elektrode ist außerhalb der Reaktionskammer angeordnet. Die Reaktionskammer und/oder Teile der Reaktionskammer können temporär entfernt und/oder ausgetauscht werden.

PS 10 2005 002 674.5 – C23C 16/505. AT 11.01.2005; OT 20.07.2006; PT 04.10.2012. Anm.: Forschungs- und Applikationslabor Plasmatechnik GmbH Dresden, 01217 Dresden, DE. Erf.: Frank, Dr. Stahr, 01477 Arnsdorf, DE, Ulf, Dr. Stephan, 01309 Dresden, DE.