Der C-CVD-Prozess: schnell und kostengünstig zu dünnen funktionellen Schichten - Stand und Ausblick
Das unter Normaldruck arbeitende Verfahren C-CVD (Combustion Chemical Vapour Deposition) ermöglicht die Beschichtung von Werkstoffen, die kaum thermisch belastet werden können. Zudem ist die kontinuierliche Beschichtung von Bandmaterial möglich, wodurch die Beschichtungskosten sinken. Dafür wurden spezielle Brennertypen untersucht und weiterentwickelt. Interessante Schichten entstehen durch Auftragen von Wolframoxid, phosphorhaltige Schichten oder elementarem Silber.
The C-CVD Process: A Rapid and Cost-Effective Thin Film Coating Method - Present Status and Future Outlook
C-CVD (Combustion Chemical Vapour Deposition) allows coatings to be applied to materials which are poorly tolerant of elevated temperatures. Further, the process can be applied to continuous coating of strip-form materials, which greatly reduces coating costs. In this connection, special burner designs were studied and developed. Commercially interesting coatings so applied, include tungsten trioxide, phosphor-containing coatings or metallic silver.
