Autorenteam WOMag 9/19 | WOTech Technical Media
  • EDITOR

    Autorenteam WOMag 9/19

    Lukas Seidl1,2, Timo Carstens3, Anna Endrikat4, Thomas Engemann4, Christiane Egger5, Mila Manolova6, Essam Moustafa7, Ingolf Scharf8, Göktug Yesilbas1,2, Esther Eke2, Sladjana Martens1, Ludwig Asen1,9, Pauline Fischer5, Adriana Ispas4, Ralf Peipmann4, Svetlozar Ivanov4, Qiong Wu3, Niklas Behrens3, Natalia Borisenko3, Dominik Höhlich8, Andreas Dietz7, Reinhard Böck6, Andreas Bund4, Fritz Kühn5, Thomas Lampke8, Frank Endres3 und Oliver Schneider1

     

    Kennungen der Hochschulen bzw. Forschungseinrichtungen obiger Autoren:

    1 Technische Universität München (TUM), Institut für Informatik VI, Garching bei München

    2 Technische Universität München, Physikdepartment, Garching bei München

    3 Technische Universität Clausthal, Institut für Elektrochemie, Clausthal-Zellerfeld

    4 Technische Universität Ilmenau, Fachgebiet Elektrochemie und Galvanotechnik, Ilmenau

    5 Technische Universität München, Professur für Molekulare Katalyse, Garching

    6 Forschungsinstitut Edelmetalle und Metallchemie (fem), Schwäbisch Gmünd

    7 Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnologie (IST), Braunschweig

    8 Technische Universität Chemnitz, Professur Werkstoff- und Oberflächentechnik, Chemnitz

    9 Technische Universität München, Fakultät für Chemie, Garching bei München

Artikel von Autorenteam WOMag 9/19 ()