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Untersuchungen zur Hydrodynamik in der Electroplating-Unit
Mit der Methode der diffusionskontrollierten Stromausbeute lassen sich die hydrodynamischen Verhältnisse in Beschichtungsanlagen zur Herstellung von Mikrobauteilen und der Beschichtung von Wafer beschreiben. Abscheidungsfehler und Unterschiede der lokalen Stoffübergangszahlen (kI-Werte) lassen sich exakt ermitteln. Ungleichmäßigkeiten der Abscheidung in entsprechenden Abscheidzellen können durch die Variation der Strömung ausgeglichen werden. Bei Verwendung von unlöslichen Anoden muss entstehender Sauerstoff abtransportiert beziehungsweise von der Kathodenoberfläche ferngehalten werden, um Abscheidungsfehler zu vermeiden.
Galvanotechnik; 102 (2011)9, S. 2084-2089, 5 Abb., 2 Tab., 4 Lit.-Hinw. Kutzschbach, P.; Strauß, T.
Study of Hydrodynamics in an Electroplating Unit
Using the method based on diffusion-controlled current efficiencies, hydrodynamic conditions in plating units used for micro-components and wafer-plating, can be characterised. Plating defects and differences in local mass transport coefficient (kI values) can be precisely determined. Non-uniform deposition in such plating cells can be corrected by modifying the flow regime. Where insoluble anodes are used, oxygen formed at the surface must be led off and not conveyed to the cathode surface where it can cause plating defects.
