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Ultradünne Combustion-CVD-Schichten als Haftschicht auf fortschrittlichen Drahtprodukten
Bei der Comustion-CVD-Technik handelt es sich um eine Variante der Flammunterstützten chemischen Dampfabscheidung mit flüssigen Precursoren. Die Technik wird eingesetzt, um auf Endlosmaterial in Drahtform Schichten aus Siliziumdioxid abzuscheiden. Die thermische Belastung liegt unter 150 °C, wobei Schichten im Bereich von 10 bis 20 nm erzeugt werden.
Galvanotechnik, 101 (2010)5, S. 1144-1146, 4 Abb., 3 Lit.-Hinw. Van Laere, A.; Groenen, R.; Van Hege, K.; Peroone, P.
Ultra thin Combustion-CVD Coatings as Adhesion Layers in Advanced Wire Production
Combustion-CVD is a variant of flame enhanced CVD using liquid precursors. The technology has been used for continuous coating of silicon dioxide on wire. Temperatures used do not exceed 150 °C allowing coatings of 10 to 20 nm to be applied.
