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Innovative Oberflächenstrukturen durch elektrochemische Beschichtungsverfahren

Die moderne Schichttechnologien geht vermehrt dazu über, die hergestellten Ober?ächen?lme nach der jeweiligen technischen Problemstellung im mikroskopischen Bereich zu strukturieren. Ein inzwischen etabliertes Beispiel ist die Herstellung von Perlglanznickel oder Strukturchrom. In beiden Fällen erzielt man bei der Abscheidung eine de?nierte Ober?ächenrauheit. Durch Pulsabscheidung von Kupfer erzielt man im Mikrobereich pyramidenförmige Metallspitzen. Durch Veränderung des Stromverlaufes bei der Abscheidung wird die Struktur der so genannten Topocrom-Oberfläche angepasst.

Innovative Surface Structures Using Electrochemical Coating Methods

Increasingly, modern surface finishing and engineering seeks to address technical problems by creating a structured or patterned surface at the microscopic level. Established examples of this include pearlescent nickel plating or patterned chromium deposits. In both cases, the aim is to create a defined surface roughness by the deposition process. Pulse plating can be used to deposit copper with a defined pyramidally-pointed surface structure. By altering the deposition current regime, a surface structure known as Topocrom is obtained.

Fähigkeiten

Substratmaterial


Schichtmaterial


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