Eine effektive Metallbeschichtung mittels PVD-Verfahren ist durch die Kombination von Plasmareinigung und -abscheidung möglich. Als Reinigungsverfahren eignen sich das magnetfeldverstärkte und das hohlkathodenunterstützte Sputterätzen. Die beiden Verfahren werden vorgestellt und der Vor- und Nachteile dargestellt.
An effective means of metal deposition based on PVD can be accomplished using a combination of plasma cleaning and plasma deposition. The cleaning step can be carried out using high magnetic ?eld hollow cathode enhanced sputter etching. These two processes are described and their advantages and drawbacks set out.
