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  EDITOR

  Dr. Andreas Pfuch

  Physik-Studium an der Belorussischen Staatlichen Universität in Minsk/Weißrussland von 1987 bis 1992, Diplomarbeit zum Thema „Struktur und Eigenschaften von ZrO₂- und Ba₂SiO₄-Pufferschichten für HTSL-Dünnschichten“

  Promotion an der Friedrich-Schiller-Universität in Jena von 1992 bis 1996 zum Thema „Untersuchungen an dünnen Schichten und verschiedenen Josephsonkontakttypen auf der Basis von 2212-Hochtemperatursupraleitern“

  seit 1997 bei INNOVENT angestellt als wissenschaftlicher Mitarbeiter auf dem Gebiet der Dünnschichttechnik (Niederdruck, Atmosphärendruck) und Aufbau des Dünnschichtlabors

  -       ab 2007 als Gruppenleiter der Arbeitsgruppe „Plasmatechnik“ tätig

  -       derzeitige Tätigkeits-Schwerpunkte:

  • Arbeiten im Bereich der Weiterentwicklung der atmosphärischen Plasmabeschichtung
  • Entwicklungsarbeiten im Bereich des Sputtern magnetischer Schichten

  Intensivierung der internationalen Vernetzung der Arbeitsgruppe

Artikel von Dr. Andreas Pfuch ()