Verfahren zur Herstellung poröser Partikel
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung poröser Partikel, umfassend die folgenden Schritte: a) Aufdotieren eines oberflächennahen Bereichs eines Halbleitersubstrats, b) Erzeugen von Ausnehmungen in dem Halbleitersubstrat, wobei ein von Ausnehmungen eingeschlossener Bereich jeweils die lateralen Dimensionen eines porösen Partikels ausbildet, c) Porosifizieren des Halbleitersubstrats, d) optional Funktionalisieren der porösen Partikel, e) Ablösen der porösen Partikel, sowie nach diesem Verfahren hergestellte Partikel.
PS 10 2006 028 916.1 - B81C 1/00. AT 23.06.2006; OT 27.12.2007; PT 16.07.2015. Anm.: Robert Bosch GmbH, 70469 Stuttgart, DE. Erf.: Stumber, Michael, 70825 Korntal-Münchingen, DE; Reichenbach, Ralf, 73732 Esslingen, DE; Pirk, Tjalf, 13589 Berlin, DE; Feyh, Ando, 71732 Tamm, DE Scholten, Dick, 70176 Stuttgart, DE.