Industrielle Einführung der HIPIMS- und HIPIMS+-Technologie
Die heute üblichen Techniken zur Herstellung von Hartstoffschichten mittels physikalischer Dampfabscheidung (PVD) beruhen in der Regel auf klassischem Verdampfen oder Magnetronsputtern. Mittels dem neuen Hochleistungsmagnetronsputtern (HIPIMS und HIPIMS+) sind Weiterentwicklungen gelungen, die zu deutliche leistungsfähigeren Schichten führen. Mit der speziellen Pulstechnik zur Steuerung des Plasmas lassen sich die Fehlerraten in den Schichten drastisch reduzieren und damit die Schichtverteilung und die Standzeit der Schichten erheblich verbessern.
Galvanotechnik, 100 (2009)12, S. 2832-2836, 7 Abb., 1 Tab. Papa, F.
Industrial Application of HIPIMS and HIPIMS+ Technologies
The conventional means of applying a hard coating is either Physical Vapour Deposition by evaporation (PVD) or Magnetron Sputtering. Thanks to developments in high-performance HIPIMS or HIPIMS+ magnetron sputtering, it is now possible to form significantly higher-performance coatings. Using a special pulse method to control the plasma, a drastic reduction of defect incidence is found and likewise better coating thickness uniformity and coating life are the outcome.
Galvanotechnik, 100 (2009)12, S. 2832-2836, 7 Abb., 1 Tab. Papa, F.
